Epitaxial (kev loj hlob)Sib xyaw Gas

Hauv kev lag luam semiconduct, cov roj siv los cog ib lossis ntau txheej txheej ntawm cov tshuaj volical outtrate yog hu ua cov roj liab.

Feem ntau siv silicon epitaxial gases suav nrog Dichlorosilane, Silicon Tetrachloride thiabnqaij iabCov. Mas siv rau Epitaxial Silicon Enterition, Silicon Oxide zaj duab xis tso, thiab lwm yam.

Cov tshuaj vapor deposition (CVD) roj sib xyaw

CVD yog ib txoj hauv kev tso cov khoom siv roj thiab cov khoom sib txuas, piv txwv li cov yeeb yaj kiab ua yeeb yaj kiab siv cov roj av roj. Nyob ntawm cov hom zaj duab xis tsim, cov tshuaj vapor deposition (CVD) roj siv kuj txawv.

DosCov Roj Sib xyaw

Hauv kev tsim cov khoom siv semiconductor thiab cov khoom siv tsis zoo, thiab lwm yam roj ntsha ua rau cov txheej txheem doping yog hu ua doping roj.

Mas suav nrog arsine, phosphine, phosphorus trifluor, phosphorus trifluoride, arsenic trifluor, arsenic pentafluoride,Boron trifluoride, Diborane, thiab lwm yam.

Feem ntau, doping qhov chaw yog tov nrog cov cab kuj roj (xws li Argon thiab Nitrogen) nyob rau hauv lub hauv paus txee. Tom qab sib tov, cov roj ntws tau tas mus li rau hauv kev sib cais kom sov thiab nyob ib puag ncig dopulas, thiab tom qab ntawd rov qab cov khoom sib xyaw ua ke uas tau tsiv mus ua silicon.

Kev mus losRoj sib xyaw

Etching yog mus etch ua cov yeeb yaj kiab ua (xws li hlau phaj, thaum muaj cov ntsej muag zoo nkauj, thiab cov khoom siv uas yuav tsum tau txais cov qauv duab uas yuav tsum tau ua.

Etching txoj kev suav nrog ntub tshuaj etching thiab qhuav tshuaj etching. Cov roj siv hauv kev siv cov tshuaj etching yog hu ua etching roj.

Etching roj yog feem ntau fluoride gas (halide), xws licarbon tetrafllide, Nitrogen trifluide, trifluoromethane, hexafluoroethane, perfluoropnane, thiab lwm yam.